삼성전자 2017년 시설투자비 46조2000억 집행

지난해 25조5000억보다 대폭 증가...반도체 29조5000억, 디스플레이 14조1000억

김혜연 기자 | 기사입력 2017/10/31 [16:23]

삼성전자 2017년 시설투자비 46조2000억 집행

지난해 25조5000억보다 대폭 증가...반도체 29조5000억, 디스플레이 14조1000억

김혜연 기자 | 입력 : 2017/10/31 [16:23]
▲ 삼성전자는 10월31일 2017년 3분기까지의 시설투자 결과와 4분기 계획을 발표했다. 사진은 삼성전자 수원사업장 전경.    

삼성전자는 10월31일 2017년 3분기까지의 시설투자 결과와 4분기 계획을 발표했다.

올해 전체 시설투자는 약 46조2000억 원으로 지난해 25조5000억 원 대비 대폭 증가할 것으로 예상된다. 사업별로는 반도체 29조5000억 원, 디스플레이 14조1000억 원 수준이다.

3분기 시설투자는 총 10조4000억 원이며 반도체에 7조2000억 원, 디스플레이에 2조7000억 원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9000억 원이 집행됐다.

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다. 디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중이다.

4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.